Cientistas desenvolvem nova solução para limpeza de químicos usados em chips
Um avanço promissor pode transformar a forma como a indústria lida com os resíduos tóxicos gerados na produção de chips. Pesquisadores da Monash University, na Austrália, anunciaram o desenvolvimento de uma tecnologia de limpeza que remove mais de 90% dos chamados “químicos eternos” presentes nos processos de fabricação de chips, marcando um grande passo rumo a um setor mais sustentável.
A inovação busca resolver um problema antigo na fabricação de chips: a presença de PFAS, substâncias perfluoroalquiladas que, por serem altamente persistentes, se acumulam no meio ambiente e oferecem riscos à saúde. Agora, com a nova membrana de grafeno desenvolvida pelo time da Monash, o processo de limpeza desses resíduos tóxicos pode se tornar muito mais eficiente.
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Químicos eternos: ameaça invisível
Os PFAS são compostos químicos utilizados em diversas etapas da fabricação de semicondutores. Eles ganharam o apelido de “químicos eternos” por causa de sua alta resistência à degradação. Capazes de se dissolver facilmente em água, essas substâncias contaminam lençóis freáticos e permanecem no ambiente por décadas, dificultando a limpeza.

Além dos riscos ambientais, os PFAS também podem ser perigosos para a saúde humana. Estudos mostram que certos tipos podem ser tóxicos quando inalados ou ingeridos e tendem a permanecer no organismo por longos períodos.
A inovação com grafeno
Liderada pelo doutorando Eubert Mahofa, a equipe da Monash University desenvolveu uma membrana modificada de grafeno capaz de reter seletivamente as moléculas de PFAS, permitindo ao mesmo tempo o livre fluxo de água. O desempenho supera os métodos tradicionais baseados em poliamida, que removem apenas cerca de 35% dessas substâncias.
“Os PFAS são difíceis de conter porque se espalham rapidamente pela água. Nossa tecnologia resolve isso ao capturar e concentrar essas moléculas, mantendo o fluxo eficiente de água”, explicou Mahofa.
Essa nova abordagem permite a filtragem em diferentes temperaturas e captura até mesmo as menores cadeias moleculares de PFAS, que geralmente escapam pelas barreiras convencionais.
Impacto industrial e ambiental
Apesar das vantagens ambientais, a indústria de chips tem historicamente resistido a iniciativas que limitem o uso de PFAS, chegando a formar grupos de lobby para manter a liberação desses compostos. A tecnologia proposta, no entanto, pode mudar esse cenário ao oferecer uma alternativa viável para conter a contaminação sem comprometer os processos de produção.
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O professor Mainak Majumder, do Conselho de Pesquisa Australiano, destacou o potencial da descoberta: “Este avanço pode revolucionar a gestão da contaminação por PFAS em escala global, desde o tratamento de chorume de aterros até a purificação de águas industriais”.
Próximos passos
Com parcerias estratégicas já em andamento, a equipe da Monash planeja escalar a produção das membranas para aplicação em grande escala. A expectativa é que a tecnologia possa ser implantada em fábricas de semicondutores e outras indústrias que trabalham com químicos eternos, evitando que esses resíduos continuem contaminando o solo e a água.
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Desafio persistente
Mesmo com soluções tecnológicas como essa, o desafio da limpeza dos PFAS continua sendo complexo. Os compostos possuem ligações carbono-flúor altamente estáveis, com meia-vida superior a oito anos, o que exige esforços contínuos e políticas de mitigação eficazes.
A nova membrana, no entanto, surge como um divisor de águas ao oferecer uma ferramenta poderosa no combate à contaminação. Com potencial para transformar a maneira como lidamos com resíduos industriais, a inovação da Monash University representa um avanço crucial tanto para a indústria de chips quanto para o meio ambiente.
Fonte: tomshardware